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AttivaapertaOfferta Economicamente Più Vantaggiosated
Gara a procedura aperta ai sensi dell’art. 71 del D.Lgs. 36/2023 per la fornitura di un sistema per la rimozione ionica reattiva assistita da plasma accoppiato induttivamente (Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching, ICP-RIE)
Fornitura di un sistema per la rimozione ionica reattiva assistita da plasma accoppiato induttivamente (Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching, ICP-RIE)
Nr. Gara 633882-2026Stazione Appaltante: Istituto Italiano di TecnologiaCPV: 38970000
Valore stimato
€ 680.000,00
Scadenza offerte
01/10/2026
Tipo procedura
aperta
Durata contratto
12 mesi
Criterio aggiudicazione
Offerta Economicamente Più Vantaggiosa
Luogo
Genova (Genova) Liguria
N° Lotti
1
Prorogabile
No
Lotti (1)
Sopralluogo
Non previsto
Stazione appaltante & Contatti
Stazione appaltante
Istituto Italiano di Tecnologia
RUP
Non disponibile
Indirizzo
Via Morego 30, 16163 Genova, Italia
Email
tenders@iit.it